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 上海真空泵
ZS型光学镀膜机
特点:
  先进的箱式工作室。
  良好的真空性能,确保蒸镀时达2×10-3Pa。
  光学膜厚测试系统,提高测量酒精度及工作可能性。
  四坩埚E型偏转,电子枪蒸发源,带X-Y扫描功能。
  独立的电控柜。
应用:
  该机是塑料薄膜,光学仪器、激光工业、眼镜、照相制造、光学薄膜、微型大规模集成电路等行业的理想设备。
主要规格:

镀膜室尺寸 Vacuum chamber
φ850×800 mm
球面工件架尺寸 Substrate Rack of Spherical type
φ800 mm
行星工件架尺寸Substrate Rack of Plant type
3-φ150 mm
工件架转速Removing speed of substrate
0~35 r.p.m(可调)
极限压力Ultimate pressure
≤4×10- Pa
电子枪功率Electron gun power
3KW(四坩埚,每个容量10ml)
烘烤功率Back power
6KW(0~350℃可调)
离子轰击功率lon Bombard Power
1.5KW
比较片转换工位Contrasting Plate
6位
电阻蒸发源功率Resistance Evaporation Source Power
2组(每组5KW)

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